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介電常數(shù)介質(zhì)損耗試驗(yàn)機(jī)操作化流程分解

更新時(shí)間:2025-04-21      點(diǎn)擊次數(shù):651

介電常數(shù)介質(zhì)損耗試驗(yàn)機(jī)操作流程分解

1. 電極系統(tǒng)預(yù)處理(核心步驟)

1.1 電極活化工藝 

清潔流程
 使用99.9%異丙醇浸泡電極(時(shí)間≥30分鐘)
 采用10μm拋光布沿單方向打磨(消除微米級(jí)氧化膜)

活化驗(yàn)證
 空白測(cè)試時(shí)介質(zhì)損耗(tanδ)應(yīng)<0.0001(50Hz基準(zhǔn))

禁用操作
 禁止使用丙酮類(lèi)溶劑(引發(fā)鍍層晶界腐蝕)

1.2 三電極適配方案(見(jiàn)圖1) 

接觸型電極
 柱面電極適用硬質(zhì)塑料,壓力控制在5±0.2N(參考IEC 60296)

非接觸型電極
 薄膜材料需配置平板電容電極(間距誤差小于等于0.01mm)

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介電常數(shù)介質(zhì)損耗試驗(yàn)機(jī)樣本制備關(guān)鍵控制點(diǎn)

2.1 幾何精度要求 

圓片試樣直徑公差±0.05mm(消除邊緣場(chǎng)干擾)

厚度測(cè)量需取九點(diǎn)平均值(排除表面不平整影響)

2.2 去極化處理 

高壓真空干燥法(50℃/0.1Pa處理12小時(shí))

直流偏壓法施加3kV/mm場(chǎng)強(qiáng)(耗時(shí)5分鐘/次)

2.3 預(yù)置標(biāo)記方案 

在試樣非測(cè)試區(qū)激光刻錄定位標(biāo)識(shí)(防止多次測(cè)試污染)


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